技術(shù)特點(diǎn)
火焰水解法制備高純度合成石英
在潔凈廠(chǎng)房?jì)?,將高規格四氯化硅?/span>SiCl4)在氫氧焰中水解生成亞微米二氧化硅(SiO2)顆粒,一個(gè)或者
多個(gè)用于反應地噴燈將亞微米顆粒堆積成柱狀粉末體(soot),精確的火焰溫度控制和摻雜工藝實(shí)現柱體
徑向合軸向均勻的密度分布合預訂的折射率分布。
粉末體在氯氣(Cl2)合氦氣(He)的加熱爐內被充分脫水除雜,然后燒結成高純度透明玻璃預制棒。
氣相軸向沉積工藝制備芯棒
軸向生長(cháng)粉末體,燒結時(shí)無(wú)中心縮合孔,具備四大工藝中最低的羥基含量,可制備零水峰光纖;
氟摻雜工藝,降低芯層二氧化鍺含量, 具備更低的本征損耗
自主知識產(chǎn)權多噴燈技術(shù),豐富折射率剖面設計,可制備G652,G657以及G655系列光纖。
外部氣相沉積工藝制備包層
高沉積速率,大尺寸。
延伸技術(shù)
實(shí)現預制棒芯棒芯,包層直徑的精確控制,光纖幾何,光學(xué)指標同一性更好。
產(chǎn)品種類(lèi)
具有滿(mǎn)足G. 652 D,G657A1, G657A2 以及G655拉絲生產(chǎn)的光纖預制棒系列。
關(guān)鍵技術(shù)指標
具有不同平均外徑和有效長(cháng)度的光纖預制棒,平均外徑從90~200mm, 有效長(cháng)度從1000mm到3000mm;
光纖產(chǎn)品指標達到并優(yōu)于ITU-T標準;
VAD芯棒技術(shù)使光纖在1383nm基本無(wú)附加吸收,達到零水峰光纖制作要求。
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